Каква посебна површинска обработка е потребна за гранитната основа во полупроводничката опрема?

Гранитот е популарен материјал кој се користи во индустријата за полупроводници, особено кога станува збор за производство на чувствителна опрема што се користи во производството на полупроводнички чипови.Гранитот е познат по своите извонредни карактеристики како што се висока стабилност, цврстина и низок коефициент на термичка експанзија.Меѓутоа, исто така бара посебна површинска обработка за да биде погодна за употреба во производството на полупроводничка опрема.

Процесот на површинска обработка на гранит вклучува полирање и премачкување.Прво, гранитната основа се подложува на процес на полирање за да се осигура дека е мазна и без какви било груби или порозни области.Овој процес помага да се спречи создавање на честички, кои потенцијално би можеле да ги контаминираат чувствителните компјутерски чипови.Откако гранитот е полиран, се премачкува со материјал кој е отпорен на хемикалии и корозија.

Процесот на обложување е од клучно значење за да се осигура дека загадувачите не се пренесуваат од површината на гранит до чиповите што се произведуваат.Овој процес вклучува прскање на заштитен слој од материјал над полираната површина на гранитот.Облогата обезбедува бариера помеѓу површината на гранитот и сите хемикалии или други загадувачи кои можат да дојдат во контакт со него.

Друг критичен аспект на површинската обработка на гранит е редовното одржување.Гранитната основа треба редовно да се чисти за да се спречи акумулација на прашина, нечистотија или други загадувачи.Ако останат неисчистени, загадувачите може да ја изгребат површината или уште полошо да завршат на полупроводничката опрема, што ќе влијае на нејзината изведба.

Накратко, гранитот е суштински материјал во индустријата за полупроводници, особено во производството на полупроводничка опрема.Сепак, тоа бара посебна површинска обработка, која вклучува полирање и обложување, и редовно одржување за да се спречи контаминација.Кога се третира правилно, гранитот обезбедува идеална основа за производство на висококвалитетни полупроводнички чипови кои се без контаминација или дефекти.