Каква посебна површинска обработка е потребна за гранитната основа во полупроводничката опрема?

Гранитот е популарен материјал што се користи во полупроводничката индустрија, особено кога станува збор за производство на чувствителна опрема што се користи во производството на полупроводнички чипови. Гранитот е познат по своите извонредни карактеристики како што се висока стабилност, цврстина и низок коефициент на термичка експанзија. Сепак, тој бара и посебен површински третман за да биде погоден за употреба во производството на полупроводничка опрема.

Процесот на површинска обработка на гранит вклучува полирање и премачкување. Прво, гранитната основа се подложува на процес на полирање за да се осигури дека е мазна и без груби или порозни делови. Овој процес помага да се спречи создавање честички, кои потенцијално би можеле да ги контаминираат чувствителните компјутерски чипови. Откако гранитот ќе се полира, тој се премачкува со материјал кој е отпорен на хемикалии и корозија.

Процесот на премачкување е клучен за да се осигури дека загадувачите не се пренесуваат од површината на гранит на парчињата што се произведуваат. Овој процес вклучува прскање на заштитен слој од материјал врз полираната површина на гранитот. Премачкувањето обезбедува бариера помеѓу површината на гранитот и сите хемикалии или други загадувачи што можат да дојдат во контакт со неа.

Друг критичен аспект на третманот на површината на гранит е редовното одржување. Гранитната основа треба редовно да се чисти за да се спречи акумулација на прашина, нечистотија или други загадувачи. Доколку не се исчисти, загадувачите може да ја изгребат површината или, уште полошо, да завршат на полупроводничката опрема, влијаејќи на нејзините перформанси.

Накратко, гранитот е суштински материјал во полупроводничката индустрија, особено во производството на полупроводничка опрема. Сепак, тој бара посебен површински третман, што вклучува полирање и премачкување, како и редовно одржување за да се спречи контаминација. Кога се третира правилно, гранитот обезбедува идеална основа за производство на висококвалитетни полупроводнички чипови кои се без контаминација или дефекти.