Во областа на производството на полупроводници, како основна опрема што ја одредува прецизноста на процесот на производство на чипови, стабилноста на внатрешната средина на фотолитографскиот апарат е од витално значење. Од возбудувањето на екстремниот ултравиолетов извор на светлина до работата на наноскалната прецизна платформа за движење, не може да има најмало отстапување во секоја врска. Гранитните бази, со низа уникатни својства, покажуваат неспоредливи предности во обезбедувањето стабилно работење на фотолитографските апарати и подобрувањето на точноста на фотолитографијата.
Одлични перформанси на електромагнетна заштита
Внатрешноста на фотолитографскиот апарат е исполнета со комплексна електромагнетна средина. Електромагнетните пречки (EMI) генерирани од компоненти како што се екстремни ултравиолетови извори на светлина, погонски мотори и високофреквентни напојувања, доколку не се контролираат ефикасно, сериозно ќе влијаат на перформансите на прецизните електронски компоненти и оптичките системи во опремата. На пример, пречките може да предизвикаат мали отстапувања во шемите на фотолитографијата. Во напредните производствени процеси, ова е доволно за да доведе до неправилни транзисторски врски на чипот, значително намалувајќи го приносот на чипот.
Гранитот е неметален материјал и сам по себе не спроведува електрична енергија. Не постои феномен на електромагнетна индукција предизвикан од движењето на слободни електрони внатре како кај металните материјали. Оваа карактеристика го прави природно електромагнетно заштитено тело, кое може ефикасно да го блокира преносниот пат на внатрешните електромагнетни пречки. Кога наизменичното магнетно поле генерирано од надворешниот извор на електромагнетни пречки се шири кон гранитната основа, бидејќи гранитот е немагнетен и не може да се магнетизира, наизменичното магнетно поле е тешко да се пробие, со што се заштитуваат основните компоненти на фотолитографскиот апарат инсталиран на основата, како што се прецизни сензори и уреди за прилагодување на оптички леќи, од влијанието на електромагнетните пречки и се обезбедува точноста на преносот на шаблони за време на процесот на фотолитографија.
Одлична компатибилност со вакуум
Бидејќи екстремната ултравиолетова светлина (EUV) лесно се апсорбира од сите супстанции, вклучително и воздухот, EUV литографските машини мора да работат во вакуумска средина. Во овој момент, компатибилноста на компонентите на опремата со вакуумската средина станува особено важна. Во вакуум, материјалите можат да се растворат, десорбираат и ослободат гас. Ослободениот гас не само што ја апсорбира EUV светлината, намалувајќи го интензитетот и ефикасноста на пренос на светлината, туку може да ги контаминира и оптичките леќи. На пример, водената пареа може да ги оксидира леќите, а јаглеводородите можат да наталожат јаглеродни слоеви на леќите, сериозно влијаејќи на квалитетот на литографијата.
Гранитот има стабилни хемиски својства и тешко ослободува гас во вакуумска средина. Според професионалното тестирање, во симулирана вакуумска средина на фотолитографски апарат (како што е ултрачистата вакуумска средина во која се наоѓаат оптичкиот систем за осветлување и оптичкиот систем за сликање во главната комора, за која е потребно H₂O < 10⁻⁵ Pa, CₓHᵧ < 10⁻⁷ Pa), стапката на испуштање гасови од гранитната основа е екстремно ниска, далеку пониска од онаа на други материјали како што се металите. Ова ѝ овозможува на внатрешноста на фотолитографскиот апарат да одржува висок степен на вакуум и чистота долго време, обезбедувајќи висока пропустливост на EUV светлина за време на преносот и ултрачиста средина за користење на оптичките леќи, продолжувајќи го работниот век на оптичкиот систем и подобрувајќи ги целокупните перформанси на фотолитографскиот апарат.
Силна отпорност на вибрации и термичка стабилност
За време на процесот на фотолитографија, прецизноста на нанометарско ниво бара машината за фотолитографија да не смее да има ни најмала вибрација или термичка деформација. Вибрациите на животната средина генерирани од работата на друга опрема и движењето на персоналот во работилницата, како и топлината произведена од самата машина за фотолитографија за време на работата, можат да влијаат на точноста на фотолитографијата. Гранитот има висока густина и тврда текстура, а има и одлична отпорност на вибрации. Неговата внатрешна минерална кристална структура е компактна, што може ефикасно да ја намали енергијата на вибрациите и брзо да ја потисне ширењето на вибрациите. Експерименталните податоци покажуваат дека под ист извор на вибрации, гранитната основа може да ја намали амплитудата на вибрациите за повеќе од 90% во рок од 0,5 секунди. Во споредба со металната основа, може побрзо да ја врати опремата во стабилност, обезбедувајќи прецизна релативна положба помеѓу леќата за фотолитографија и плочката, и избегнувајќи замаглување на шаблонот или нерамномерно порамнување предизвикано од вибрации.
Во меѓувреме, коефициентот на термичка експанзија на гранитот е екстремно низок, приближно (4-8) ×10⁻⁶/℃, што е многу пониско од она на металните материјали. За време на работата на фотолитографскиот апарат, дури и ако внатрешната температура флуктуира поради фактори како што се генерирањето топлина од изворот на светлина и триењето од механичките компоненти, гранитната основа може да ја одржи димензионалната стабилност и нема да претрпи значителна деформација поради термичка експанзија и контракција. Обезбедува стабилна и сигурна потпора за оптичкиот систем и платформата за прецизно движење, одржувајќи ја конзистентноста на точноста на фотолитографијата.
Време на објавување: 20 мај 2025 година